Ruszył polsko-chiński konkurs Art & Design Competition 2020 „Mind & Senses in Art & Design”

21.10.2019

Politechnika Śląska we współpracy z Uniwersytetem Śląskim jest gospodarzem drugiej edycji konkursu Art & Design Competition 2020: „Mind & Senses in Art & Design” organizowanego w ramach Chińsko – Polskiego Konsorcjum Uniwersyteckiego. Przyjmowanie zgłoszeń już się zaczęło – informuje uczelnia.

Konkurs adresowany jest do studentów i pracowników uczelni zrzeszonych w Konsorcjum. Tematem są indywidualne interpretacje i odniesienia do tradycji i współczesności codziennego życia krajów partnerskich, mogące stać się przyczynkiem do wzajemnego poznania i zbliżenia kultur oraz ich promocji. Prace konkursowe należy składać́ na wydziale architektury Politechniki Śląskiej,

Pierwsza edycja konkursu która miała miejsce w Beijing University of Technology w Chinach, cieszyła się dużym zainteresowaniem uczestników i okazała się być niezwykle wartościową platformą do promowania dialogu między uniwersytetami w Chinach i w Polsce oraz partnerami gospodarczymi z obu krajów.

 

jsz


Wydarzenia