La Polytechnique de Silésie, en coopération avec l’Université de Silésie, est l’hôte de la deuxième édition du Concours Art & Design 2020 : « Mind & Senses in Art & Design » organisé dans le cadre du Consortium Sino-Polonais des Universités. Le dépôt des candidatures a déjà commencé – informe l’université.

Le concours s’adresse aux étudiants et aux employés des universités associées au Consortium. Il s’agit d’interprétations individuelles et de références aux traditions et à la vie quotidienne contemporaine des pays partenaires, qui peuvent devenir une contribution à la connaissance mutuelle et à la proximité des cultures et à leur promotion. Les candidatures doivent être soumises à la Faculté d’architecture de la Polytechnique de Silésie,

La première édition du concours, qui s’est déroulée à l’Université de technologie de Pékin en Chine, a été très populaire parmi les participants et s’est révélée être une plate-forme très utile pour promouvoir le dialogue entre les universités en Chine et en Pologne et les partenaires économiques des deux pays.