El Grupo de Investigación sobre Grafeno en Escamas del Łukasiewicz – Instituto de Microelectrónica y Fotónica (IMiF) creó una marca de materiales con base en el grafeno en escamas, G-Flake.

El objeto de la investogación es un grafeno fundamentalmente diferente del grafeno ampliamente conocido desde hace unos años, destaca Łukasiewicz ImiF.

El grafeno en escamas se crea mediante procesos químicos que permiten el «desprendimiento» de capas individuales de grafito. El grafeno epitaxial se crea con mayor frecuencia mediante la deposición de átomos de carbono de la fase gaseosa sobre un sustrato adecuadamente preparado, por ejemplo, cobre o carburo de silicio.

«Somos capaces de crear diversas formas de dichos materiales, entre ellos, óxido de grafeno, óxido de grafeno reducido, pasta de óxido de grafeno y el llamado papel de grafeno», explica el Dr. Ing. Adrian Chlanda, líder del Grupo de Investigación sobre Grafeno en Escamas de Łukasiewicz – ImiF.

La tecnología puede aplicarse en muchas áreas, entre otros, industrias de defensa, medicina y automotriz. Actualmente, los científicos analizan el uso de grafeno en escamas para el almacenamiento de energía o como capa barrera para su aplicación en tanques de hidrógeno.