Le docteur-ingénieur Jakub Sitek du Département de Physique de la Polytechnique de Varsovie (PW), et un groupe international de chercheurs ont mis au point une nouvelle méthode qui ouvre la voie à la production de masse de dispositifs basés sur des matériaux 2D. Les résultats des travaux de l’équipe ont été publiés dans la revue ACS Applied Materials & Interfaces, rapporte la PW.

Notre équipe a mis au point une méthode de production sélective d’hétérostructures de van der Waals par dépôt chimique en phase vapeur en utilisant l’irradiation par faisceau d’électrons », explique le docteur-ingénieur Jakub Sitek, qui précise que le processus consiste à exposer un substrat, tel que le graphène, à un faisceau d’électrons très puissant. 

Les électrons modifient le substrat tout en le saturant d’une charge électrique. Nous faisons ensuite croître une autre couche de matériaux 2D, par exemple des semi-conducteurs tels que le sulfure de tungstène WS2, sur ce substrat exposé, ajoute-t-il.

Pour en savoir plus : https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acsami.3c02892