W Grupie Badawczej Grafenu Płatkowego działającej w Łukasiewicz – Instytucie Mikroelektroniki i Fotoniki (IMiF) utworzono markę materiałów związanych z grafenem płatkowym o nazwie G-Flake.

Grafen, nad którym obecnie pracują naukowcy z Łukasiewicza, różni się zasadniczo od grafenu, o którym było głośno kilka lat temu – podkreśla Łukasiewicz IMiF.

Grafen płatkowy powstaje na drodze chemicznych procesów pozwalających na „odrywanie” poszczególnych warstw grafitu, czyli materiału z którego powstaje grafen płatkowy. Grafen epitaksjalny tworzony jest najczęściej na drodze osadzania atomów węgla z fazy gazowej na odpowiednio przygotowany substrat, na przykład miedzi lub węgliku krzemu.

– Jesteśmy w stanie tworzyć różne formy takich materiałów, w tym: tlenek grafenu, zredukowany tlenek grafenu, pastę tlenku grafenu oraz tzw. papier grafenowy – powiedział dr inż. Adrian Chlanda, lider Grupy Badawczej Grafenu Płatkowego w Łukasiewicz – IMiF.

Zastosowanie tej technologii jest możliwe w bardzo wielu dziedzinach. To przemysł obronny, medyczny czy samochodowy. Obecnie trwają prace nad wykorzystaniem grafenu płatkowego do magazynowania energii, lub jako warstwy barierowej do wykorzystania w zbiornikach na wodór.

jp