O Dr. Eng. Jakub Sitek, da Faculdade de Física da Universidade Tecnológica de Varsóvia (PW), com um grupo internacional de pesquisadores, desenvolveu um novo método que abre a porta para a produção em massa de dispositivos baseados em materiais 2D. Os resultados da pesquisa foram publicados em “ACS Applied Materials & Interfaces”, relata a PW.
“A nossa equipa desenvolveu um método para a produção seletiva de heteroestruturas de Van der Waals por deposição química de vapor usando irradiação por feixe de eletrões, “diz o Dr. Eng. Jakub Sitek, explicando que o processo envolve a irradiação de um substrato, por exemplo, grafeno, com um feixe de eletrões muito poderoso.
“Os eletrões modificam o substrato e, ao mesmo tempo, o saturam de carga elétrica. Depois, sobre esse substrato irradiado, crescemos outra camada de materiais 2D, por exemplo, semicondutores como o sulfureto de tungsténio WS2”, acrescenta.
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